老虎說芯

“老虎說芯”由北京大學微電子專業本碩，中國電源學會會員、在半導體行業有10多年經驗的胡獨巍先生撰寫，為大家提供半導體行業關于材料、工藝、應用、市場、資訊等方面的內容。在知乎有同名賬號。

更新日期： 2024-10-23
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探針卡（Probe Card）在集成電路測試中起著至關重要的作用，尤其在晶圓測試（wafer test）環節，探針卡作為連接ATE測試機臺和半導體晶圓之間的接口，確保了在芯片封裝前對其電學性能進行初步測量和篩選。 1. 什么是探針卡？探針卡可以形象地比作“醫生的聽診器”，幫助工程師“聽到”芯片的“心跳”。……

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為什么研發EUV光刻機那么難？

更新日期： 2024-10-23
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雖然表面上看，光刻機是半導體制造的工具之一，但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。 1. 極端紫外光源的挑戰：就像尋找“完美的燈泡” EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產生與控制是最大的技術挑戰之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個……

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SOC設計的核心思想、優勢以及跟系統級封裝的對比

更新日期： 2024-10-22
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SoC（ on Chip）作為芯片設計的主流，已經成為現代集成電路技術發展的核心。 1、SoC設計的核心思想從結構上來看，SoC可以理解為把一個完整系統的所有功能電路都設計并集成在一個芯片中，形成一個高度集成的單元。傳統的電子系統設計通常是將不同的功能模塊分別制作成獨立的芯片，然后通過電路板上的連接將這些芯片集成到一個系統中。而SoC技術則直接將這些模塊在芯片制造時集成在一起，形成一個系統化的單芯片解決方案。我們可以用“多合一工具”來形象化這個過程。傳統的電子設計就像是你在使

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SOC跟SIP（系統級封裝）的區別在哪里？

更新日期： 2024-10-22
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SoC（系統級芯片）與SiP（系統級封裝）兩種技術都是現代集成電路發展的重要里程碑，它們都能實現電子系統的小型化、高效化和集成化。一、SoC（系統級芯片）和SiP（系統級封裝）的定義及基本思路 SoC（System on Chip）——將整個系統“擠”進一個芯片 SoC 就像一棟高樓，把所有的功能模塊都設計、集成到同一個物理芯片上。SoC的核心思想是將整個電子系統的核心部件，包括處理器（CPU）、存儲器、通信模塊、模擬電路、傳感器接口等多種不同功能模塊全部集成在一個芯片上。SoC的優勢

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晶圓工藝優化或失效分析相關術語

更新日期： 2024-10-15
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1. Defect “Defect”指的是在晶圓生產過程中出現的缺陷，可能是由于工藝不穩定、設備問題或材料瑕疵導致的。這些缺陷可能包括顆粒污染、圖形失真、晶體結構破損等，都會影響最終產品的質量。通俗解釋：就是生產過程中出現的“瑕疵”或“不良”，這些問題可能影響芯片的正常功能。 2. Fail ……

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干法刻蝕的原理、工藝流程、評價參數及應用

更新日期： 2024-10-15
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RIE干法刻蝕技術憑借其優越的各向異性刻蝕能力和良好的選擇比控制，已成為半導體制造中不可或缺的核心工藝。一、RIE干法刻蝕技術的基本原理 RIE（Reactive Ion Etching，反應離子刻蝕）作為一種主流的干法刻蝕技術，通過等離子體中的活性物質對材料表面進行選擇性刻蝕，以達到精確移除材料的目的。圖：干法刻蝕概要 RIE刻蝕技術屬于一種等離子體輔助的干法刻蝕工藝。刻蝕過程中，通過在反應腔內引入刻蝕氣體并施加射頻電場，在電場作用下刻蝕氣體被電離和激發，形成等離子體

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如何理解晶圓制造中的Second Source

更新日期： 2024-10-15
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在半導體制造和晶圓工藝設備維護中，"Second Source"（二次來源）指的是使用非原廠供應商生產的零件或耗材來替代原廠零件。這種策略有助于降低成本、減少對單一供應商的依賴，同時確保制造的持續性和靈活性。 1. 什么是Second Source？ Second Source是指在生產制造過程中，為了降低……

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深入理解晶圓生產中的SPC系統

更新日期： 2024-10-15
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SPC (Statistical Process Control) 是晶圓生產工藝中非常重要的工具，用于監控、控制和改進制造過程中各個環節的穩定性。 1. SPC 系統的概述 SPC 是一種通過統計方法監控和控制制造過程的方法。其核心是通過實時數據的采集和分析來檢測生產過程中是否有異常情況發生，從而幫助工程師做出及時的調整和決策。SPC的目標是在生產過程中減少變異，確保產品質量穩定并符合規格。 SPC在蝕刻工藝中用于：監控關鍵設備參數（如蝕刻速率、RF功率、腔體壓力、溫度等）

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晶圓材料的生產工藝比較

更新日期： 2024-10-14
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硅片是現代電子產業的核心材料，廣泛應用于集成電路、太陽能電池、MEMS等領域。硅片（wafer）的生產工藝對其質量、性能和后續的應用至關重要。硅基集成電路工藝中，硅片的純度、摻雜濃度、晶體結構等參數會直接影響到器件的性能。在硅片生產中，最常用的兩種工藝是直拉法（Czochralski，簡稱CZ法）和區熔法（Float-……

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通俗理解晶圓制造中的離子注入機臺

更新日期： 2024-10-14
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離子注入過程就像是一個高速公路上的投射系統，從離子源開始“起步”，通過加速和質量分離進行挑選，經過加速通道達到高速，然后通過鏡頭和偏轉裝置精準瞄準，最終將晶圓作為終點，精準完成摻雜。離子注入機（Ion Implanter）的組成如下： 1. 離子源（Ion Source）離子源是離……

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晶圓（硅片）為什么越來越大？

更新日期： 2024-10-11
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在硅基集成電路生產過程中，硅片（wafer）是關鍵材料之一。硅片的直徑和大小在整個生產工藝中起著至關重要的作用。硅片的尺寸不僅決定了可以生產的芯片數量，也對成本、產能和質量有直接影響。一、硅片尺寸的歷史發展集成電路生產的早期，使用的硅片直徑較小。1960年代中期，硅片的直徑通常是25毫米（1英寸……

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晶圓工藝中的擴散過程詳解

更新日期： 2024-10-11
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擴散（Diffusion）是晶圓制造過程中至關重要的工藝步驟之一，尤其是在半導體制造中，用于摻雜硅基材料。這一過程是通過擴散將特定的摻雜物（如磷、硼、砷等）引入硅晶圓，以調整其導電性。 1. 擴散的基本原理擴散，是指分子從高濃度區域向低濃度區域移動的過程。在晶圓制造中，擴散的對象是摻雜物（例如砷、磷或硼等……

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