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英偉達算力GPU主要型號及參數
  • 更新日期: 2025-04-04
  • 瀏覽次數: 888
1. A100:數據中心AI計算的奠基石 A100是英偉達2020年發布的旗艦級數據中心GPU,基于Ampere架構,主要特性包括: 架構:Ampere ……
AI全產業鏈,誰是龍頭?
  • 更新日期: 2025-04-04
  • 瀏覽次數: 774
AI 產業鏈通常可分為上游基礎層、中游技術層和下游應用層。 未來,是人工智能的時代,未來已來!你準備好了嗎? 免責聲明:本文采摘自“ittbank”,本文僅代表作者個人觀點,不代表薩科微及行業觀點,只為轉載與分享,支持保護知識產權,轉載請注明原出處及作者,如有侵權請聯系我們刪除。
宋仕強新作被海外媒體熱轉,千萬閱讀量引發廣泛關注!(薩科微4月3日每日芯聞)
  • 更新日期: 2025-04-03
  • 瀏覽次數: 762
美聯社APNews、環球郵報TheGlobeAndMail、Benzinga、BarChart等頁面 國際: 1、意法半導體與英諾賽科簽署氮化鎵技術開發與制造協議,聯手提升氮化鎵功率解決方案的競爭力和供應鏈韌性。 2、Lightmatter推出了Passage M1000光子超級芯片,該芯片專……
金航標/薩科微每周之星李門
  • 更新日期: 2025-04-03
  • 瀏覽次數: 1097
視頻剪輯李門 2025年03月31日到2025年04月03日,金航標(www.kinghelm.net)/薩科微(www.slkoric.com)“每周之星”經過同事們評比,這周“每周之星”是推廣部視頻剪輯李門,在最近一周工作中,關注熱點,做好視頻剪輯工作,不斷提高視頻播放量和粉絲數量,以完成公司業績為目……
中國首富換人:字節跳動創始人張一鳴榮登榜首(金航標4月2日芯聞)
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 721
宋仕強先生雄文被新華瞭望號、新浪財經等數百家媒體熱轉,閱讀量近千萬! 國際: 1、日本精密零部件制造企業Orbray開發出了適用于電子產品的全球最大級別金剛石基板,尺寸為2厘米見方,還表示今后將增大至2英寸(約5厘米)直徑,爭取2026年面向功率半導體及量子計算機等用途實現產品化。 2……
如何看待中國半導體產業的未來發展?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 835
在談及中國半導體產業的未來發展時,我們必須深刻理解這是一個典型的高技術壁壘和高資本投入的產業,更是全球科技競爭的戰略制高點。要想在這個極其復雜的產業體系中取得突破,需要我們從以下幾個關鍵維度入手,方能真正穿越周期、實現長期健康成長。 一、準確把握時代趨勢,實現熵管理 半導體產業是數字化與AI時代的核心支撐。……
如何看待國產芯片行業的內卷現狀?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 814
國內芯片行業的內卷現象,本質上是資本過度競爭、技術積累不足與戰略模糊的結果。要走出內卷困境,芯片企業需要從戰略聚焦、技術突破、生態建設、運營優化等多方面入手,秉持長期主義,推動產業生態的完善和競爭力的提升。同時,要警惕短期機會主義,避免陷入“資本泡沫”,以穩定且可持續的模式走向行業領導地位。 1、國內芯片行業的內……
柵極(Gate)的基本原理、材料選擇和工藝方法
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 849
在晶體管世界里,如果將晶體管比作一個可控的“水龍頭”,那么柵極(Gate)就如同控制龍頭開關的閥門,其重要性不言而喻。隨著半導體工藝進入納米時代,柵極的材料與制造工藝不斷進步,成為提升器件性能的關鍵之一。 柵極的技術背景與工作原理 晶體管中的柵極位于源極(Source)與漏極(Drain)之間,通過外加電壓……
光刻工藝中為什么正膠比負膠使用較多?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 739
在現代集成電路制造中,正光刻膠(Positive Photoresist)是絕對的主流選擇,尤其在先進制程(如 28nm、16nm、7nm 及以下)中,絕大多數關鍵層都使用正光刻膠。 1. 分辨率與線寬控制 正膠的成像原理 ……
光刻工藝:光刻膠、曝光方式、光刻主要步驟
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 1033
光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復轉印環節,對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導體制造工藝演進,對光刻分辨率、套準精度和可靠性的要求持續攀升,光刻技術也將不斷演化,支持更為先進的制程與更復雜的器件設計。 一、光刻在集成電路制造中的地位 在制造集成電路時,常需反復多次“轉印”設計圖形到硅襯……
光刻工藝中g線、i線、DUV、EUV是什么意思?
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 595
不同波長的光源各自對應不同的技術節點和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV,每一次升級都展現了更高分辨率和更先進的工藝水平。隨著對器件尺寸不斷逼近物理極限,EUV及其后續升級版本將持續發展。 但需注意,EUV設備昂貴、維護復雜,加之掩模技術、襯底材料以及光刻膠等配套環節……
深入理解芯片封裝設計圖紙
  • 更新日期: 2025-04-02
  • 瀏覽次數: 662
封裝設計圖紙是集成電路封裝過程中用于傳達封裝結構、尺寸、布局、焊盤、走線等信息的重要文件。它是封裝設計的具體表現,是從設計到制造過程中不可缺少的溝通工具。封裝設計圖紙可以幫助工程師、制造商和測試人員理解封裝設計的細節,確保設計與生產的準確性和一致性。 1.封裝設計圖紙的基本概念 封裝設計圖紙是由封裝工程師使……

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